ASML估High NA EUV製晶片數月亮相 點名台積、三星AI瓶頸

標題: ASML估High NA EUV製晶片數月亮相 點名台積、三星AI瓶頸


作者: 鉅亨網編譯羅昀玫 綜合外電
發表時間: 2026-05-20 05:10:02

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描述: ASML 執行長福克 (Christophe Fouquet) 表示，市場可望看到首批由新一代 High-NA EUV 製造的晶片產品問世，代表先進製程正式邁向下一階段。
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