中國晶片設計傳突破！荷蘭半導體專家潑冷水：艾司摩爾EUV曝光機仍是「最難跨越的門檻」
標題: 中國晶片設計傳突破！荷蘭半導體專家潑冷水：艾司摩爾EUV曝光機仍是「最難跨越的門檻」
![]()
作者: 鉅亨網編譯莊閔棻
發表時間: 2026-06-28 16:20:02
描述: 華為積極布局 RISC-V 開源架構，尋求突破 ARM 與 x86 技術限制，加速中國半導體自主發展。然而專家指出，真正限制中國先進晶片製造的仍是 ASML 獨占的 EUV 曝光機。本文解析 RISC-V、ARM、x86 與 EUV 技術差異，以及
