ASML首遭中國技術挑戰！繞道LDP技術點亮國產EUV原型機！外媒：進展超許多西方專家預期
標題: ASML首遭中國技術挑戰！繞道LDP技術點亮國產EUV原型機！外媒：進展超許多西方專家預期
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作者: 鉅亨網編譯陳韋廷
發表時間: 2026-07-16 14:50:08
描述: 印度國際新聞頻道《WION》週二 (14 日) 引述消息人士獨家報導指出，中國已在深圳一處高度機密的設施內，成功搭建完全國產化的極紫外光 (EUV) 光刻機原型機，這是自 1990 年代艾司摩爾投入 EUV 研發以來，首次有外部力量獨立實現 EUV 光源產生與整機系統集成，全球半導體產業長期由西方技
