台積電宣布2030年起導入ASML High NA EUV、微影光罩尺寸擴大一倍

標題: 台積電宣布2030年起導入ASML High NA EUV、微影光罩尺寸擴大一倍


作者: 鉅亨網記者魏志豪 新竹
發表時間: 2026-09-08 14:26:23

台積電 ASML High NA EUV 量產 headline

描述: 艾司摩爾(ASML-US)台積電(2330-TW)(TSM-US)今(8)日共同宣布，台積電將自2030年起在先進製程量產中導入艾司摩爾的High NA EUV技術，並進一步擴大微影光罩尺寸，從現有的6吋光罩擴大至12吋
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