imec突破High-NA EUV極限 光阻材料將一路延續至埃米世代

標題: imec突破High-NA EUV極限 光阻材料將一路延續至埃米世代

作者: 鉅亨網記者魏志豪 台北
發表時間: 2026-09-13 13:37:01


描述: 比利時微電子研究中心(imec)宣布攜手ASML及材料供應商，在High-NA EUV微影技術再取得進展。將產業沿用多年的化學放大阻劑(CAR)，完成22奈米間距導線的單次圖形化，並驗證多種接近實際晶片設計的複雜結構，顯

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