搶攻 2 奈米以下 GAA 製程！應材推 2 沉積設備進軍埃米時代

標題: 搶攻 2 奈米以下 GAA 製程！應材推 2 沉積設備進軍埃米時代


作者: 林 妤柔
發表時間: 2026-04-14 10:35:23

半導體 材料、設備 ALD PECVD 半導體設備 應材

描述: 應材近日推出兩款晶片製造系統，專為打造全球最先進邏輯晶片中的最微小特徵結構而設計。這些技術透過原子級的精度控制 […]
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